Measuring stress in thin films
Título del documento: Measuring stress in thin films
Revista: Instrumentation & development
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000192889
ISSN: 0187-8549
Autores: 1
2
Instituciones: 1Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, Guadalajara, Jalisco. México
2Universidad Autónoma de Barcelona, Bellaterra, Barcelona. España
Año:
Periodo: Jul
Volumen: 5
Número: 2
Paginación: 99-103
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Disciplinas: Ingeniería,
Física y astronomía
Palabras clave: Ingeniería de instrumentos,
Física de materia condensada,
Películas delgadas,
Medición de esfuerzos,
Sensores integrados,
Esfuerzo residual,
Silicio
Keyword: Engineering,
Physics and astronomy,
Instrumentation engineering,
Condensed matter physics,
Thin films,
Stress measuring,
Integrated sensors,
Residual stress,
Silicon
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