Determination of recombination lifetime in MOS structures using a lineal voltage-sweep technique



Título del documento: Determination of recombination lifetime in MOS structures using a lineal voltage-sweep technique
Revue: Superficies y vacío
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000404806
ISSN: 1665-3521
Autores: 1
1
2
Instituciones: 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Puebla. México
2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Centro de Investigaciones en Dispositivos Semiconductores, Puebla. México
Año:
Periodo: Jun
Volumen: 17
Número: 2
Paginación: 29-31
País: México
Idioma: Español
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Resumen en inglés A lineal-voltage sweep technique for measurements of recombination lifetime in MOS structures is proposed. When a fast lineal – voltage ramp is applied to the gate of an MOS capacitor a non-equilibrium depletion layer is formed and electronhole generation start in the space charge region and in the bulk. At elevated temperature the quasi-neutral region generation dominates rather than the space charge region generation. Then the diffusion length, and consequently the recombination lifetime, can be determined. Experimental results are shown
Disciplinas: Física y astronomía,
Ingeniería,
Química
Palabras clave: Física de materia condensada,
Ingeniería de materiales,
Fisicoquímica y química teórica,
Estructuras MOS,
Semiconductores,
Electroquímica
Keyword: Physics and astronomy,
Engineering,
Chemistry,
Condensed matter physics,
Physics,
Materials engineering,
Physical and theoretical chemistry,
MOS structures,
Semiconductors,
Electrochemistry
Texte intégral: Texto completo (Ver PDF)