Revista: | Superficies y vacío |
Base de datos: | PERIÓDICA |
Número de sistema: | 000404806 |
ISSN: | 1665-3521 |
Autores: | Peykov, P1 Aceves, M1 Diaz, T2 |
Instituciones: | 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Puebla. México 2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Centro de Investigaciones en Dispositivos Semiconductores, Puebla. México |
Año: | 2004 |
Periodo: | Jun |
Volumen: | 17 |
Número: | 2 |
Paginación: | 29-31 |
País: | México |
Idioma: | Español |
Tipo de documento: | Artículo |
Enfoque: | Analítico |
Resumen en inglés | A lineal-voltage sweep technique for measurements of recombination lifetime in MOS structures is proposed. When a fast lineal – voltage ramp is applied to the gate of an MOS capacitor a non-equilibrium depletion layer is formed and electronhole generation start in the space charge region and in the bulk. At elevated temperature the quasi-neutral region generation dominates rather than the space charge region generation. Then the diffusion length, and consequently the recombination lifetime, can be determined. Experimental results are shown |
Disciplinas: | Física y astronomía, Ingeniería, Química |
Palabras clave: | Física de materia condensada, Ingeniería de materiales, Fisicoquímica y química teórica, Estructuras MOS, Semiconductores, Electroquímica |
Keyword: | Physics and astronomy, Engineering, Chemistry, Condensed matter physics, Physics, Materials engineering, Physical and theoretical chemistry, MOS structures, Semiconductors, Electrochemistry |
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