Diseno optimo de modelos para analisis fotoelastico de esfuerzos
Document title: Diseno optimo de modelos para analisis fotoelastico de esfuerzos
Journal: Reunión Nacional de Análisis de Esfuerzos. Memoria
Database: PERIÓDICA
System number: 000124637
Authors: 1
Institutions: 1Instituto Tecnológico de La Laguna, Dep Proyectos Inv Aplicada, Torreón, Coahuila. México
Year:
Season: Abr
Pages: 20-29
Country: México
Document type: Reporte técnico
Approach: Descriptivo
Disciplines: Ingeniería,
Física y astronomía,
Matemáticas
Keyword: Ingeniería de materiales,
Mecánica, elasticidad y reología,
Matemáticas aplicadas,
Diseño,
Modelos matemáticos,
Análisis,
Fotoelastico,
Esfuerzos,
Materiales
Keyword: Engineering,
Physics and astronomy,
Mathematics,
Materials engineering,
Mechanics, elasticity and rheology,
Applied mathematics,
Design,
Mathematical models,
Analysis,
Photoelastic,
Stresses,
Materials
Document request
Note: The document is shipping cost.









Original documents can be consulted at the Departamento de Información y Servicios Documentales, located in the Annex to the General Directorate of Libraries (DGB), circuito de la Investigación Científica across from the Auditorium Nabor Carrillo, located between the Institutes of Physics and Astronomy. Ciudad Universitaria UNAM. Show map
For more information: Departamento de Información y Servicios Documentales, Tels. (5255) 5622-3960, 5622-3964. E-mail: sinfo@dgb.unam.mx . Monday to Friday from (8 to 16 hrs).