Diseno optimo de modelos para analisis fotoelastico de esfuerzos
Título del documento: Diseno optimo de modelos para analisis fotoelastico de esfuerzos
Revista: Reunión Nacional de Análisis de Esfuerzos. Memoria
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000124637
Autors: 1
Institucions: 1Instituto Tecnológico de La Laguna, Dep Proyectos Inv Aplicada, Torreón, Coahuila. México
Any:
Període: Abr
Paginació: 20-29
País: México
Tipo de documento: Reporte técnico
Enfoque: Descriptivo
Disciplines Ingeniería,
Física y astronomía,
Matemáticas
Paraules clau: Ingeniería de materiales,
Mecánica, elasticidad y reología,
Matemáticas aplicadas,
Diseño,
Modelos matemáticos,
Análisis,
Fotoelastico,
Esfuerzos,
Materiales
Keyword: Engineering,
Physics and astronomy,
Mathematics,
Materials engineering,
Mechanics, elasticity and rheology,
Applied mathematics,
Design,
Mathematical models,
Analysis,
Photoelastic,
Stresses,
Materials
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