Electrical characterization of planarized a-SiGe:H Thin-film Transistors



Título del documento: Electrical characterization of planarized a-SiGe:H Thin-film Transistors
Revue: Revista mexicana de física
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000363496
ISSN: 0035-001X
Autores: 1
1
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Instituciones: 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Departamento de Electrónica, Tonantzintla, Puebla. México
Año:
Periodo: Ene-Feb
Volumen: 59
Número: 1
Paginación: 62-65
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico, teórico
Resumen en inglés In this work the electrical characterization of n-channel a-SiGe:H TFTs with planarized gate electrode is presented. The planarized a-SiGe:H TFTs were fabricated at 200°C on corning glass substrate. The devices exhibit a subthreshold slope of 0.56 V/Decade, an on/off-current ratio approximately of 106 and off-current approximately of 0.3 × 10-12 A. The results show an improvement of the electrical characteristics when are compared to those unplanarized devices fabricated at higher temperature. Moreover, the simulation of the device using a SPICE model is presented
Disciplinas: Física y astronomía
Palabras clave: Física,
Películas delgadas,
Silicio amorfo hidrogenado,
Bajas temperaturas,
Modelo espin uno,
Spice
Keyword: Physics and astronomy,
Physics,
Thin films,
Hydrogenated amorphous silicon,
Low temperatures,
Spin-one model,
Spice
Texte intégral: Texto completo (Ver PDF)