Influence of the growth parameters of TiO2 thin films deposited by the MOCVD method



Título del documento: Influence of the growth parameters of TiO2 thin films deposited by the MOCVD method
Revue: Ceramica (Sao Paulo)
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000215416
ISSN: 0366-6913
Autores: 1




2
Instituciones: 1Universidade Federal de Sao Carlos, Centro Multidisciplinar para o Desenvolvimento de Materiais Ceramicos, Sao Carlos, Sao Paulo. Brasil
2Universidade Federal da Paraiba, Departamento de Quimica, Joao Pessoa, Paraiba. Brasil
Año:
Periodo: Ene-Mar
Volumen: 48
Número: 305
Paginación: 38-42
País: Brasil
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Experimental, descriptivo
Disciplinas: Ingeniería
Palabras clave: Ingeniería de materiales,
Dióxido de titanio,
Titania,
Deposición
Keyword: Engineering,
Materials engineering,
Titanium dioxide,
Deposition
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