Revista: | Superficies y vacío |
Base de datos: | PERIÓDICA |
Número de sistema: | 000252135 |
ISSN: | 1665-3521 |
Autores: | Guillén Santiago, Alejandro1 Olvera, M. de la L Maldonado, A |
Instituciones: | 1Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, México, Distrito Federal. México |
Año: | 2001 |
Periodo: | Dic |
Volumen: | 13 |
Paginación: | 77-79 |
País: | México |
Idioma: | Español |
Tipo de documento: | Artículo |
Enfoque: | Experimental, descriptivo |
Disciplinas: | Ingeniería |
Palabras clave: | Ingeniería de materiales, Semiconductores, Películas, Oxidos, Deposición |
Keyword: | Engineering, Materials engineering, Semiconductors, Films, Oxides, Deposition |
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