| Journal: | Revista mexicana de física |
| Database: | PERIÓDICA |
| System number: | 000337688 |
| ISSN: | 0035-001X |
| Authors: | Mejía Hernández, J.A3 Murillo, G1 Policroniades, R1 Andrade, E2 Camps, E4 Muhl, S3 Zavala, E.P2 |
| Institutions: | 1Instituto Nacional de Investigaciones Nucleares, Departamento del Acelerador, México, Distrito Federal. México 2Universidad Nacional Autónoma de México, Instituto de Física, México, Distrito Federal. México 3Universidad Nacional Autónoma de México, Instituto de Investigaciones en Materiales, México, Distrito Federal. México 4Instituto Nacional de Investigaciones Nucleares, Departamento de Física, México, Distrito Federal. México |
| Year: | 2007 |
| Season: | Feb |
| Volumen: | 53 |
| Number: | 3 |
| Pages: | 52-56 |
| Country: | México |
| Language: | Inglés |
| Document type: | Artículo |
| Approach: | Experimental |
| Spanish abstract | En este trabajo se estudia las características de las capas de CH depositadas en sustratos de Si por una fuente de plasma de micro ondas del tipo Resonancia Ciclotrónica Electrónica (ECR), usándose diferentes mezclas de H2/CH4. El contenido de hidrógeno y carbono, así como el espesor de las películas se determinó por la dispersión hacia delante de un haz de 12C3+ con una energía de 8.45 MeV, y el bajo contenido de oxígeno en las mismas se determinó usando un haz de deuterio de 1.040 MeV llevando a cabo un análisis de reacciones nucleares (NRA) |
| English abstract | We present in this study the characteristics of CH layers deposited on Si substrates using an electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma source with different H2/CH4 mixtures. Quantification of the hydrogen and carbon content and the thickness of the films was determined by Forward Elastic Scattering with a 8.45 MeV 12C3+ beam. The oxygen concentration in the films was measure by Nuclear Reaction Analysis (NRA) using a 1.040 MeV deuterium |
| Disciplines: | Física y astronomía, Ingeniería |
| Keyword: | Física atómica y molecular, Física nuclear, Ingeniería de materiales, Películas delgadas, Métodos de análisis con haz de acelerador |
| Keyword: | Physics and astronomy, Engineering, Atomic and molecular physics, Nuclear physics, Materials engineering, Plasma enhanced chemical vapor deposition, Thin films, IBA methods |
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