Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF6/CH4/O2/Ar y SF6/CF4/O2/Ar
Document title: Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF6/CH4/O2/Ar y SF6/CF4/O2/Ar
Journal: Revista mexicana de física
Database: PERIÓDICA
System number: 000218706
ISSN: 0035-001X
Authors: 1
2
Institutions: 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Tonantzintla, Puebla. México
2Universidade Estadual de Campinas, Centro de Componentes Semiconductores, Campinas, Sao Paulo. Brasil
Year:
Season: Abr
Volumen: 50
Number: 2
Pages: 203-207
Country: México
Language: Español
Document type: Artículo
Approach: Analítico
Disciplines: Física y astronomía
Keyword: Física,
Física de materia condensada,
Silicio,
Grabado profundo,
Micromaquinado,
Plasmas,
Anisotropía
Keyword: Physics and astronomy,
Condensed matter physics,
Physics,
Silicon,
Deep etching,
Micromachining,
Plasmas,
Anisotropy
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