Estudio de la cinética de auto-intersticiales de silicio usando membranas de silicio bajo oxinitridación térmica
Document title: Estudio de la cinética de auto-intersticiales de silicio usando membranas de silicio bajo oxinitridación térmica
Journal: Revista mexicana de física
Database: PERIÓDICA
System number: 000154013
ISSN: 0035-001X
Authors: 1
2
Institutions: 1Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Instituto de Ciencias, Puebla. México
2Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, México, Distrito Federal. México
Year:
Season: Abr
Volumen: 45
Number: 2
Pages: 163-173
Country: México
Language: Español
Document type: Artículo
Approach: Analítico
Disciplines: Física y astronomía,
Química
Keyword: Física de materia condensada,
Fisicoquímica y química teórica,
Semiconductores,
Silicio,
Autointersticiales,
Oxinitridación,
Nitruro de silicio
Keyword: Physics and astronomy,
Chemistry,
Condensed matter physics,
Physical and theoretical chemistry,
Semiconductors,
Silicon,
Self-interstitials,
Oxinitridation,
Silicon nitride
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