Estudio de la cinética de auto-intersticiales de silicio usando membranas de silicio bajo oxinitridación térmica
Título del documento: Estudio de la cinética de auto-intersticiales de silicio usando membranas de silicio bajo oxinitridación térmica
Revista: Revista mexicana de física
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000154013
ISSN: 0035-001X
Autores: 1
2
Instituciones: 1Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Instituto de Ciencias, Puebla. México
2Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, México, Distrito Federal. México
Año:
Periodo: Abr
Volumen: 45
Número: 2
Paginación: 163-173
País: México
Idioma: Español
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Disciplinas: Física y astronomía,
Química
Palabras clave: Física de materia condensada,
Fisicoquímica y química teórica,
Semiconductores,
Silicio,
Autointersticiales,
Oxinitridación,
Nitruro de silicio
Keyword: Physics and astronomy,
Chemistry,
Condensed matter physics,
Physical and theoretical chemistry,
Semiconductors,
Silicon,
Self-interstitials,
Oxinitridation,
Silicon nitride
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