| Revue: | Revista mexicana de física |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000333505 |
| ISSN: | 0035-001X |
| Autores: | Montes de Oca, J.A1 Ceballos Alvarez, J1 Galaviz Pérez, J1 Manaud, J2 Lahaye, M2 Muñoz Saldaña, J3 |
| Instituciones: | 1Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación en Ciencia Aplicada y Tecnología Avanzada, Altamira, Tamaulipas. México 2Universite de Bordeaux I, Institut de Chimie de la Matiere Condensee, Talence, Gironde. Francia 3Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, Querétaro. México |
| Año: | 2010 |
| Periodo: | Abr |
| Volumen: | 56 |
| Número: | 2 |
| Paginación: | 118-124 |
| País: | México |
| Idioma: | Español |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Experimental, aplicado |
| Resumen en español | En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti–Al–O mediante la técnica rf–sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti3Al en una cámara con atmósfera de Ar–O2. Las películas de Ti–Al–O fueron obtenidas variando parámetros experimentales, tales como el porcentaje de oxígeno alimentado a la cámara de reacción, la densidad de potencia del plasma y la temperatura del sustrato. Las películas depositadas sobre sustratos de vidrio fueron utilizadas para evaluar las propiedades ópticas, mientras que las películas crecidas sobre sustratos de Si fueron empleadas para determinar las propiedades mecánicas y morfológicas. La estructura cristalina, morfología, composición química y propiedades ópticas de las películas fueron evaluadas mediante difracción de rayos X (DRX), microscopía electrónica de barrido de alta resolución (MEB–AR), espectroscopia de electrones Auger (EEA) y espectroscopia UV visible (UV–VIS). El espesor de las películas fue evaluado usando un perfilómetro mecánico. La rugosidad y las propiedades mecánicas, tales como dureza y módulo de elasticidad reducido, fueron analizadas mediante microscopía de fuerza atómica (MFA) y nanoindentación, respectivamente |
| Resumen en inglés | In the present work Ti–Al–O thin films were synthesized by rf–sputtering technique on glass and silicon (Si) substrates using TiAl and Ti3Al targets in a sputtering chamber with an Ar–O2 atmosphere. Ti–Al–O thin films were obtained varying experimental parameters such as oxygen percent fed to the reaction chamber, plasma power density and substrate temperature. The films deposited on glass substrates were used to evaluate their optical properties, while those deposited on Si substrates were used to evaluate mechanical and morphological properties. The crystalline structure, morphology, chemical composition and optical properties of the films were evaluated by X–ray diffraction (XRD), high–resolution scanning electron microscopy (HR–SEM), Auger Electron Spectroscopy (AES) and Visible UV Spectroscopy (UV–VIS). Films thicknesses were measured using a profiler. The roughness and mechanical properties such as hardness and Young's modulus were analyzed by atomic force microscopy (AFM) and nanoindentation technique, respectively |
| Disciplinas: | Ingeniería |
| Palabras clave: | Ingeniería de materiales, Películas delgadas, Oxido de titanio, Pulverización |
| Keyword: | Engineering, Materials engineering, Thin films, Titanium oxide, Sputtering |
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