Pequeno reactor de bajo costo para depositar capas delgadas de polisilicio por el metodo cvd
Título del documento: Pequeno reactor de bajo costo para depositar capas delgadas de polisilicio por el metodo cvd
Revue: Revista cubana de física
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000052724
ISSN: 0253-9268
Autores: 1
Instituciones: 1Instituto Central de Investigación Digital, La Habana. Cuba
Año:
Volumen: 3
Número: 2
Paginación: 21-33
País: Cuba
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Teórico
Disciplinas: Ingeniería
Palabras clave: Ingeniería de control,
Ingeniería electrónica,
Películas delgadas,
Polisilicio,
Reactores
Keyword: Engineering,
Control engineering,
Electronic engineering,
Polysilicon,
Reactors,
Thin films
Solicitud del documento
Nota: El envío del documento tiene costo.









Los documentos originales pueden ser consultados en el Departamento de Información y Servicios Documentales, ubicado en el Anexo de la Dirección General de Bibliotecas (DGB), circuito de la Investigación Científica a un costado del Auditorio Nabor Carrillo, zona de Institutos entre Física y Astronomía. Ciudad Universitaria UNAM. Ver mapa
Mayores informes: Departamento de Información y Servicios Documentales, Tels. (5255) 5622-3960, 5622-3964, e-mail: sinfo@dgb.unam.mx, Horario: Lunes a viernes (8 a 16 hrs.)