Characterization of thin films deposited by physical vapor deposition (PVD), using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) technique



Título del documento: Characterization of thin films deposited by physical vapor deposition (PVD), using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) technique
Revue: Journal of the Mexican Chemical Society
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000397044
ISSN: 1665-9686
Autores: 1
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Instituciones: 1Centro de Investigación y Desarrollo Tecnológico en Electroquímica S.C., Pedro Escobedo, Querétaro. México
2Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación de Estudios Avanzados, Juriquilla, Querétaro. México
Año:
Periodo: Oct-Dic
Volumen: 59
Número: 4
Paginación: 308-313
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Experimental, aplicado
Resumen en español En el presente trabajo se evaluó el desempeño ante la corrosión de una película delgada de NiCu depositada por la técnica de Deposición de vapor física a dos diferentes tiempos de deposición. Los resultados de Espectroscopía de Impedancia Electroquímica en disolución de NaCl mostraron un aumento gradual de la resistividad como consecuencia de la degradación de la película (delaminación) para los dos tiempos, junto con la deposición de productos de corrosión generados sobre el recubrimiento por la recombinación de los óxidos del sustrato
Resumen en inglés In this paper the performance against corrosion of a thin film of NiCu deposited by Physical Vapor Deposition at two different times of deposition, was evaluated. Electrochemical Impedance results in NaCl solution, showed a gradual increase in resistivity due to the degradation of the film (delamination) for both times, along with the deposition of corrosion products on the coating generated by recombination of substrate oxides
Disciplinas: Ingeniería,
Química
Palabras clave: Ingeniería química,
Química organometálica,
Corrosión,
Espectroscopía de impedancia electroquímica,
Nanotecnología,
Películas delgadas
Keyword: Engineering,
Chemistry,
Chemical engineering,
Organometallic chemistry,
Corrosion,
Electrochemical impedance spectroscopy (EIS),
Nanotechnology,
Thin films
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