| Revue: | Journal of the Brazilian Chemical Society |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000310965 |
| ISSN: | 0103-5053 |
| Autores: | Bauerfeldt, Glauco F1 Arbilla, Graciela |
| Instituciones: | 1Universidade Federal do Rio de Janeiro, Instituto de Quimica, Rio de Janeiro. Brasil |
| Año: | 2000 |
| Periodo: | Abr |
| Volumen: | 11 |
| Número: | 2 |
| Paginación: | 129-135 |
| País: | Brasil |
| Idioma: | Inglés |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Experimental, aplicado |
| Resumen en inglés | In this work, a numerical modelling analysis of the gas-phase decomposition of pure SF6 and SF6/O2 mixtures, in the presence of silicon was performed. The relative rate of individual processes, the effect of the parameters uncertainties and the sensitivity coefficients were determined. The results were compared with literature experimental data for the plasma etching of silicon and with previous simulated results to adjust the model parameters. As in the CF4 system, the main etching agent is atomic fluorine and the concentration of the major species depends on the composition of the mixture. The shape of the sensitivity curves follows the general shape of the individual rate curves and the ratio between the calculated sensitivity coefficients is closely related to the contribution of each reaction |
| Resumen en portugués | Neste trabalho é realizada a simulação numérica da decomposição em fase gasosa de SF6 e misturas de SF6/O2, na presença de silício. São determinadas as velocidades relativas dos processos individuais, o efeito da incerteza dos parâmetros e os coeficientes de sensibilidade. Os resultados são comparados com dados experimentais encontrados na literatura e resultados calculados previamente para a corrosão do silício, a fim de ajustar os parâmetros do modelo. À semelhança do que acontece com o CF4, o principal agente de corrosão é o flúor atômico e a concentração das principais espécies envolvidas depende da composição da mistura. A forma das curvas de sensibilidade segue o formato geral das curvas que representam a velocidade dos processos individuais e a relação entre os coeficientes de sensibilidade calculados para as diferentes etapas de reação é uma medida da contribuição de cada uma ao processo total |
| Disciplinas: | Química |
| Palabras clave: | Química orgánica, Descomposición de gases, Hexafluoruro de azufre, Análisis de sensibilidad, Análisis de tasa de producción |
| Keyword: | Chemistry, Organic chemistry, Gas decomposition, Sulfur hexafluoride, Sensitivity analysis, Rate of production analysis |
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