| Revue: | Journal of applied research and technology |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000427808 |
| ISSN: | 1665-6423 |
| Autores: | Serrano Pérez, Edgar1 Serrano Pérez, Javier2 Martínez Piñón, Fernando1 Juárez García, José Manuel3 Serrano Pérez, Omar4 Juárez López, Fernando1 |
| Instituciones: | 1Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación e Innovación Tecnológica, Ciudad de México. México 2Universidad Tecnológica de Tecámac, Tecámac, Estado de México. México 3Centro Nacional de Metrología, El Marqués, Querétaro. México 4Instituto Politécnico Nacional, Centro de Innovación y Desarrollo Tecnológico en Cómputo, Ciudad de México. México |
| Año: | 2017 |
| Periodo: | Dic |
| Volumen: | 15 |
| Número: | 6 |
| País: | México |
| Idioma: | Inglés |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Experimental, aplicado |
| Resumen en inglés | A cost-effective direct liquid injection system is developed for a chemical vapor deposition process using a microcontroller. The precursor gas phase is controlled by the precise sequential injection of a liquid precursor solution to a vaporizing chamber prior deposition. The electronic control system allows the human-machine interface through a LCD display and a keypad matrix. The core of the electronic system is based on an electro mechanical injector operated in time and frequency as a sequential control system by a popular PIC16F877A chip. The software has been developed in the BASIC language and it can be easily modified through an ICSP programmer for different sequential automatized routines. The injection calibration test has proven the linearity of the injection control system for different operation parameters. The results reported the sequential injection MOCVD deposition of alumina thin film |
| Disciplinas: | Ingeniería |
| Palabras clave: | Ingeniería química, Ingeniería de control, Deposición química de vapor, Microcontroladores, Inyección directa de líquido, Películas delgadas |
| Keyword: | Chemical engineering, Control engineering, Microcontroller, Chemical vapor deposition, Direct liquid injection, Thin films |
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