Determinacion de los parametros caracteristicos de la fusion del silicio amorfo utilizando pulsos laser
Título del documento: Determinacion de los parametros caracteristicos de la fusion del silicio amorfo utilizando pulsos laser
Revista: Ingeniería electrónica, automática y comunicaciones
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000114920
ISSN: 0258-5944
Autores: 1
Instituciones: 1Instituto Superior Politécnico "José Antonio Echeverría", Departamento de Física, La Habana. Cuba
Año:
Volumen: 13
Número: 1
Paginación: 61-65
País: Cuba
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Descriptivo, analítico
Disciplinas: Ingeniería,
Física y astronomía
Palabras clave: Ingeniería electrónica,
Física de materia condensada,
Semiconductores,
Silicio amorfo,
Fusión,
Pulsos laser,
Parámetros
Keyword: Engineering,
Physics and astronomy,
Electronic engineering,
Condensed matter physics,
Semiconductors,
Silicon-amorphous,
Fusion,
Laser pulses,
Parameters
Solicitud del documento
Nota: El envío del documento tiene costo.









Los documentos originales pueden ser consultados en el Departamento de Información y Servicios Documentales, ubicado en el Anexo de la Dirección General de Bibliotecas (DGB), circuito de la Investigación Científica a un costado del Auditorio Nabor Carrillo, zona de Institutos entre Física y Astronomía. Ciudad Universitaria UNAM. Ver mapa
Mayores informes: Departamento de Información y Servicios Documentales, Tels. (5255) 5622-3960, 5622-3964, e-mail: sinfo@dgb.unam.mx, Horario: Lunes a viernes (8 a 16 hrs.)