Growth and characterization of Ge1-xSnx alloys grown by magnetron sputter deposition



Título del documento: Growth and characterization of Ge1-xSnx alloys grown by magnetron sputter deposition
Revista: Superficies y vacío
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000404986
ISSN: 1665-3521
Autores: 1
1
1
Instituciones: 1Universidad Autónoma de San Luis Potosí, Instituto de Investigación en Comunicación Optica, San Luis Potosí. México
Año:
Periodo: Dic
Volumen: 16
Número: 4
Paginación: 22-24
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Resumen en inglés Single phase Ge1-xSnx alloys have been grown on Ge(100) and GaAs(100) substrates using a R. F. Sputtering system. Using HRXRD on asymmetrical planes in plane and in growth lattice parameters are obtained. A residual strain due to the differences in the linear thermal expansion coefficient between the alloy and the substrates is observed
Disciplinas: Física y astronomía,
Ingeniería
Palabras clave: Física de materia condensada,
Ingeniería de materiales,
Aleaciones,
Germanio,
Estaño,
Pulverización catódica,
Películas delgadas,
Semiconductores
Keyword: Physics and astronomy,
Engineering,
Condensed matter physics,
Materials engineering,
Alloys,
Germanium,
Tin,
Sputtering,
Thin films,
Semiconductors
Texto completo: Texto completo (Ver PDF)