Revista: | Superficies y vacío |
Base de datos: | PERIÓDICA |
Número de sistema: | 000404987 |
ISSN: | 1665-3521 |
Autores: | Yu Zhenrui1 Aceves, Mariano1 Carrillo, Jesús2 Flores, Francisco2 |
Instituciones: | 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Tonantzintla, Puebla. México 2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Instituto de Ciencias, Puebla. México |
Año: | 2003 |
Periodo: | Dic |
Volumen: | 16 |
Número: | 4 |
Paginación: | 25-29 |
País: | México |
Idioma: | Inglés |
Tipo de documento: | Artículo |
Enfoque: | Analítico |
Resumen en inglés | In this article, the observation of charge trapping effect of silicon rich oxide (SRO) layer in an Al/SRO/Al on Si structure by lateral electrical stress is reported. The density of trapped charges depends on the deposition and post-treatment conditions of the SRO layer. For the Al/SRO/Al structure grown on n-Si substrates, positive trapped charges were observed. A model is proposed to interpret the experimental results |
Disciplinas: | Física y astronomía, Ingeniería |
Palabras clave: | Física de materia condensada, Ingeniería de materiales, Ingeniería electrónica, Estado sólido, Transporte electrónico, Semiconductores, Dieléctricos, Películas delgadas, Silicio, Nanocristales |
Keyword: | Physics and astronomy, Engineering, Condensed matter physics, Electronic engineering, Materials engineering, Solid state, Electronic transport, Semiconductors, Dielectrics, Thin films, Silicon, Nanocrystals |
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