Caracterización de películas de fosfuro de galio nitrogenado



Título del documento: Caracterización de películas de fosfuro de galio nitrogenado
Revista: Momento
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000407161
ISSN: 0121-4470
Autores: 1
2
2
Instituciones: 1Universidad Nacional de Colombia, Laboratorio de Nanoestructuras Semiconductoras, Manizales, Caldas. Colombia
2Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, México, Distrito Federal. México
Año:
Periodo: Dic
Número: 45
Paginación: 34-43
País: Colombia
Idioma: Español
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico, descriptivo
Resumen en español Las películas de GaP1-xNx fueron depositaron por magnetrón sputtering sobre substratos silicio (100) variando la temperaturas del substrato desde 420 oC hasta 520 oC. Difracción de rayos-X muestran que las películas son policristalinas con orientación preferencial en la dirección (111). Micrografías de alta resolución tomadas en sección transversal con un microscopio electrónico de barrido, muestran un crecimiento columnar. Espectros Raman evidencian la existencia de modos vibracionales TO y LO localizados en 370 y 408 cm-1 asociados a GaP, y un modo fonónico local alrededor de 390 cms-1 relacionado con el desorden estructural inducido por nitrógeno, debido probablemente a la incorporación de átomos y/o clusters de N en la matriz de GaP
Resumen en inglés GaPN thin films were deposited on Silicon (100) substrates, in the range of 420-520 oC by r-f magnetron sputtering employing a nitrogen–argon atmosphere. According to X-ray measurements the GaPN films are polycrystalline with preferential orientation along of (111) direction. High resolution scanning electron microscopy (HRSEM) images taken in cross sectional show a columnar growth. Raman spectra show TO and LO vibrational phonon modes at 370 and 408 cm-1 associated to GaP, and a local phonon mode around 390 cm-1, likely related with N-induced disorder or N-cluster formation in GaP host
Disciplinas: Física y astronomía,
Ingeniería
Palabras clave: Física de materia condensada,
Ingeniería de materiales,
Fosfuro de galio,
Películas delgadas,
Pulverización catódica,
Semiconductores
Keyword: Physics and astronomy,
Engineering,
Condensed matter physics,
Materials engineering,
Gallium phosphide,
Thin films,
Sputtering,
Semiconductors
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