| Journal: | Revista mexicana de física |
| Database: | PERIÓDICA |
| System number: | 000348063 |
| ISSN: | 0035-001X |
| Authors: | García Gradilla, V1 Soto Herrera, G1 Machorro Mejía, R1 Mitrani Abenchuchan, E2 |
| Institutions: | 1Universidad Nacional Autónoma de México, Centro de Nanociencias y Nanotecnología, Ensenada, Baja California. México 2Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada, División de Física, Ensenada, Baja California. México |
| Year: | 2009 |
| Season: | Abr |
| Volumen: | 55 |
| Number: | 2 |
| Pages: | 106-111 |
| Country: | México |
| Language: | Inglés |
| Document type: | Artículo |
| Approach: | Analítico, teórico |
| Spanish abstract | Se presenta una aplicacion del modelo de Berg para el deposito de pelıculas delgadas de ZrOX por la tecnica de erosion ionica reactiva. Se propone un tratamiento alternativo de dicho modelo, adaptandolo a un punto de vista ingenieril. El modelo de Berg en su forma original considera el envenenamiento del blanco como una fraccion de cobertura de la superficie del blanco, la presion de deposito, los flujos de entrada y la velocidad de bombeo. En el tratamiento alternativo que aquı se ejemplifica, todas estas cantidades -difıciles de medir en la practica - se reducen a considerar solamente variaciones en la caıda de voltaje en el blanco y la impedancia del plasma, que juntos conforman el voltaje de descarga. La ventaja de este tratamiento es que puede ser usado facilmente por un ingeniero de campo, sin conocimientos en ciencias de materiales, para controlar las propiedades de la pelıcula a depositar |
| English abstract | A Berg model application for ZrOX thin film deposition by DC reactive sputtering is presented. An alternative treatment to this model is proposed, focused on an engineering point of view. Berg model involves target poisoning as a compound covering a fraction of the target surface, pressure, input flow and pumping speed. In the alternative treatment presented, all these quantities –some hard to be measuredare condensed by considering variations in the target voltage and plasma impedance, that together comprises the discharge voltage. The advantage of this handling is that can be easily used by a field engineer, without necessity of advanced knowledge in material science |
| Disciplines: | Física y astronomía, Ingeniería |
| Keyword: | Optica, Ingeniería de materiales, Erosión iónica reactiva, Voltaje de descarga, Películas delgadas, Modelos |
| Keyword: | Physics and astronomy, Engineering, Optics, Materials engineering, Reactive sputtering, Discharge voltage, Thin films, Models |
| Full text: | Texto completo (Ver PDF) |
