Characterization of AlN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering



Document title: Characterization of AlN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering
Journal: Revista mexicana de física
Database: PERIÓDICA
System number: 000325711
ISSN: 0035-001X
Authors: 1
2
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Institutions: 1Universidad Autónoma de Nuevo León, Facultad de Ciencias Físico Matemáticas, Monterrey, Nuevo León. México
2Universidad Autónoma de Nuevo León, Programa de Posgrado en Ingeniería Física Industrial, Monterrey, Nuevo León. México
3Universidad Nacional Autónoma de México, Centro de Ciencias de la Materia Condensada, Ensenada, Baja California. México
Year:
Season: Ago
Volumen: 54
Number: 4
Pages: 271-278
Country: México
Language: Inglés
Document type: Artículo
Approach: Experimental, aplicado
Spanish abstract Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para crecer películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN). El propósito principal de este trabajo consistió en analizar el efecto del oxígeno en las propiedades ópticas y estructurales de las películas. Las propiedades estructurales y ópticas de las muestras se caracterizaron con espectroscopia elipsométrica y difracción de rayos X, respectivamente. La microestructura que pueden presentar las películas puede ser hexagonal (tipo wurzita, P633m3) ó cubica (zinc–blenda, Fm3m), dependiendo de las condiciones de depósito. A partir de la medición de los parámetros elipsométricos (ψ,Δ), se utilizó el modelo del oscilador simple de Lorentz para obtener un estimado del ancho óptico, Eg
English abstract A set of AlN thin–films was prepared by reactive magnetron sputtering at room temperature. The purpose of this work was to study the effect of oxygen impurities on the structural and optical properties of AlN films. The structural and optical properties of the resulting films were characterized using X–ray diffraction (XRD) and spectroscopic ellipsometry, respectively. Depending on the deposition conditions, films can be hexagonal (wurtzite, P633m3) or cubic (zinc blende, Fm3m) in their microstructure. From the optical measurements, the ellipsometric parameters (ψ,Δ) and the real refractive index as a function of energy were obtained. From the ellipsometric measurements, a model of the Lorentz single–oscillator was employed to estimate the optical band gap, Eg
Disciplines: Física y astronomía
Keyword: Optica,
Erosión iónica reactiva,
Películas delgadas,
AlN
Keyword: Physics and astronomy,
Optics,
Reative sputtering,
Thin films,
AlN
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