A study of lithographic properties of thin CaF2-Films on silicon wafers under ion beam irradiation
Document title: A study of lithographic properties of thin CaF2-Films on silicon wafers under ion beam irradiation
Journal: Memoria Electro - Congreso Internacional de Ingeniería Electrónica
Database: PERIÓDICA
System number: 000165162
ISSN: 1405-2172
Authors: 1
Institutions: 1Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Instituto de Ciencias, Puebla. México
Year:
Season: Oct
Volumen: 19
Pages: 94-98
Country: México
Language: Inglés
Document type: Artículo
Approach: Analítico, descriptivo
Disciplines: Ingeniería
Keyword: Ingeniería de materiales,
Ingeniería electrónica,
Microelectrónica,
Película de flúor,
Semiconductores
Keyword: Engineering,
Electronic engineering,
Materials engineering,
Microelectronics,
Fluoride films,
Semiconductors
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