| Journal: | Dyna (Medellín) |
| Database: | PERIÓDICA |
| System number: | 000383767 |
| ISSN: | 0012-7353 |
| Authors: | Araneda Hernández, Eugenia1 Vergara Gutierrez, Froilán1 Pagliero Neira, Antonio1 |
| Institutions: | 1Universidad de Concepción, Facultad de Ingeniería, Concepción. Chile |
| Year: | 2014 |
| Season: | Nov-Dic |
| Volumen: | 81 |
| Number: | 188 |
| Pages: | 209-215 |
| Country: | Colombia |
| Language: | Español |
| Document type: | Artículo |
| Approach: | Aplicado, descriptivo |
| Spanish abstract | En este estudio se determinó el efecto de la adición de agentes inhibidores y/o afinadores de grano comúnmente utilizados en la electrorefinación industrial de cobre sobre el coeficiente de difusión de ión cúprico a composición de ácido, cobre y temperatura en el rango industrial promedio. El coeficiente de difusión del ión cúprico DCu2+ se obtuvo de acuerdo a la expresión de Levich a través de mediciones de corriente límite sobre electrodo de disco rotatorio de acero inoxidable 316 L en soluciones sintéticas de composición 40 g/L de Cu2+ y 200 g/L de H2SO4 a 60°C con adición de cola, tiourea y cloruro a tres niveles de concentración y se compararon con el valor obtenido en soluciones en ausencia de estos aditivos. La incorporación de aditivos resulta en una leve disminución del coeficiente de difusión del Cu2+ siendo más significativa en presencia de iones cloruro |
| English abstract | The effect of levelling and grain-refining agents on the diffusion coefficient of cupric ion was studied. Tests were performed using synthetic solutions with Cu2+ concentration and acidity similar to those of a copper electro-refining industrial electrolyte by means of rotating disc electrode (RDE) technique. The diffusion coefficient was calculated according to Levich's expression from measurements of limiting current for different rotating speed of the RDE. Arrhenius dependence of the diffusion coefficient with temperature in the absence of additives was verified. In presence of additives, the variation of the limiting current is mainly attributed to changes in diffusion coefficient of cupric ion observed |
| Disciplines: | Ingeniería |
| Keyword: | Ingeniería metalúrgica, Cobre, Electrorrefinación, Iones de cobre, Coeficiente de difusión, Viscosidad, Tiourea |
| Keyword: | Engineering, Metallurgical engineering, Copper, Electrorefining, Copper ions, Diffusion coefficient, Viscosity, Thiourea |
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