La implantacion ionica aplicada a la fabricacion de circuitos integrados mos
Título del documento: La implantacion ionica aplicada a la fabricacion de circuitos integrados mos
Revista: Ingeniería electrónica, automática y comunicaciones
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000088148
ISSN: 0258-5944
Autores: 1
Instituciones: 1Instituto Central de Investigación Digital, La Habana. Cuba
Año:
Periodo: Sep
Volumen: 5
Número: 3
Paginación: 364-386
País: Cuba
Idioma: Español
Tipo de documento: Reporte técnico
Enfoque: Descriptivo, analítico
Disciplinas: Física y astronomía,
Ciencia y tecnología,
Ingeniería
Palabras clave: Física nuclear,
Tecnología,
Ingeniería electrónica,
Matemáticas aplicadas,
Circuitos integrados,
Fabricación,
Implantación de iones,
Cálculo,
Impurezas,
MOS
Keyword: Physics and astronomy,
Science and technology,
Engineering,
Nuclear physics,
Technology,
Electronic engineering,
Integrated circuits,
Manufacture,
Ion implantation,
Calculation,
Impurities,
Mos,
Applied mathematics
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