Contained erosion-voiding in thin film crystallite interconnet metals
Título del documento: Contained erosion-voiding in thin film crystallite interconnet metals
Revista: Científica (México, D.F.)
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000232994
ISSN: 1665-0654
Autores: 1
2
Instituciones: 1Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Facultad de Ciencias Físico Matemáticas, Puebla. México
2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Instituto de Ciencias, Puebla. México
Año:
Periodo: Ene-Mar
Volumen: 8
Número: 1
Paginación: 15-21
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Aplicado
Disciplinas: Ingeniería
Palabras clave: Ingeniería de materiales,
Interconexión,
Electromigración,
Vacío,
Conducción
Keyword: Engineering,
Materials engineering,
Interconnections,
Electromigration,
Voids,
Conduction
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