Películas delgadas de SnS2 preparadas por la técnica de Rocío Pirolítico



Título del documento: Películas delgadas de SnS2 preparadas por la técnica de Rocío Pirolítico
Revista: Superficies y vacío
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000395123
ISSN: 1665-3521
Autores: 1
1
Instituciones: 1Universidad Nacional Autónoma de México, Centro de Investigación en Energía, Temixco, Morelos. México
Año:
Periodo: Mar
Volumen: 20
Número: 1
Paginación: 34-38
País: México
Idioma: Español
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Resumen en español En este trabajo se presentan los resultados obtenidos de la preparación y caracterización de películas delgadas de disulfuro de estaño (SnS2) obtenidas mediante la técnica de rocío pirolítico. Para disolver los compuestos precursores (SnCl2 y N,N dimetil tiourea, empleados como fuentes de iones de estaño y azúfre, respectivamente) se usó una mezcla de alcohol, agua y ácido clorhídrico. La temperatura de substrato, Ts, se varió de 340 a 380°C en pasos de 20°C. De los análisis de difracción de rayos-X se encontró que el material depositado a Ts > 340°C posee estructura hexagonal, y está orientado en la dirección cristalográfica [001]. Con los datos obtenidos de la caracterización óptica se calculó la brecha de energía, Eg, de las películas depositadas, el valor de Eg se encuentra en el intervalo de 1.99 a 2.38 eV, con transiciones ópticas indirectas permitidas. De la caracterización eléctrica se encontró que el valor de la conductividad en obscuridad, σD, está entre 10-5 y 10-7 (Ω cm)-1 . Las películas depositadas a Ts = 360°C son las que poseen las mejores características estructurales y ópticas para su aplicación en estructuras fotovoltaicas
Resumen en inglés In this work we present the results from the preparation and characterization of tin disulfide (SnS2) thin films obtained by the spray pyrolysis technique. We used an alcohol, water, and hydrochloric acid mixture for the dissolution of the precursor compounds: SnCl2 and N,N-dymetil thiourea, employed as sources of Sn and S ions, respectively. The substrate temperature was varied from 340 to 380°C in 20°C steps. From the XRD analysis we found that the deposited material was polycrystalline for substrate temperatures bigger than 340°C, with an hexagonal structure and a high degree of orientation along the [001] direction. We calculate the optical bandgap, Eg, of the deposited thin films with the data obtained from the optical characterization, the values are in the range 1.99-2.38 eV for indirect allowed optical transitions. The values of the electrical conductivity measured in the dark, σD, are in the range 10-5—10-7 (Ω cm)-1. Films deposited at Ts = 360°C have the best structural and optical characteristics to be used in photovoltaic structures
Disciplinas: Física y astronomía
Palabras clave: Física,
Optica,
Estado sólido,
Películas delgadas,
Rocío pirolítico,
Crecimiento de cristales,
Semiconductores
Keyword: Physics and astronomy,
Optics,
Physics,
Solid state,
Thin films,
Spray pyrolysis,
Crystal growth,
Semiconductors
Texto completo: Texto completo (Ver PDF)