| Revista: | Superficies y vacío |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000366187 |
| ISSN: | 1665-3521 |
| Autores: | Díaz Reyes, J1 Dorantes García, V2 Pérez Benítez, A3 Balderas López, J. A4 |
| Instituciones: | 1Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación en Biotecnología Aplicada, Tepetitla de Lardizábal, Tlaxcala. México 2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Preparatoria Simón Bolívar, Atlixco, Puebla. México 3Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Facultad de Ciencias Químicas, Puebla. México 4Instituto Politécnico Nacional, Unidad Profesional Interdisciplinaria de Biotecnología, México, Distrito Federal. México |
| Año: | 2008 |
| Periodo: | Jun |
| Volumen: | 21 |
| Número: | 2 |
| Paginación: | 12-17 |
| País: | México |
| Idioma: | Inglés |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Experimental, aplicado |
| Resumen en inglés | Thin film of tungsten oxide (WO3) has been studied extensively as an electrochromic material and has numerous applications in electrochromic devices, smart windows, gas sensors and optical windows. In order to explore the possibility of using it in electrochromic devices, thorough study the optical properties of the WO3 is an important step. The WO3 layers have been grown by hot–filament metal oxide deposition technique under atmospheric pressure and an oxygen atmosphere. By FTIR and Raman scattering studies we found that the films contain hydrates. We have observed that the thin films of WO3 can be satisfactorily grown by this technique |
| Disciplinas: | Química |
| Palabras clave: | Electroquímica, Trióxido de tungsteno, Calentamiento resistivo, Películas delgadas, Espectroscopía de infrarrojo, Dispersión de Raman |
| Keyword: | Chemistry, Electrochemistry, Tungsten trioxide, Resistive heating, Thin films, Infrared spectroscopy, Raman scattering |
| Texto completo: | Texto completo (Ver HTML) |
