Caracterización de películas delgadas de carburo de tungsteno (W-C) obtenidas por el método de co-sputtering



Título del documento: Caracterización de películas delgadas de carburo de tungsteno (W-C) obtenidas por el método de co-sputtering
Revista: Superficies y vacío
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000377828
ISSN: 1665-3521
Autores: 1
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Instituciones: 1Universidad del Valle, Centro de Excelencia en Nuevos Materiales, Cali, Valle del Cauca. Colombia
2Universidad del Valle, Escuela de Ingeniería de Materiales, Cali, Valle del Cauca. Colombia
3Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, México, Distrito Federal. México
4Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación e Innovación Tecnológica, México, Distrito Federal. México
Año:
Periodo: Sep
Volumen: 21
Número: 3
Paginación: 30-32
País: México
Idioma: Español
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Experimental, aplicado
Resumen en español Se obtuvieron películas delgadas de carburo de tungsteno (W–C) por la técnica de deposición física de vapor con radiofrecuencia (RF – 13.56 MHz – magnetron co–sputtering) en gas argón a partir de un blanco compuesto de carbono C (99.9%) y tungsteno W (99.9%) con diferentes concentraciones de W y C. Las películas delgadas se depositaron a temperaturas en el rango de 300 a 500°C sobre substratos de silicio (100) y acero AISI D3. El análisis de difracción de rayos X mostró que se obtienen dos fases de W–C: carburo de tungsteno W–C hexagonal y subcarburo W2C ortorrómbico. Estas fases dependen directamente de la concentración de tungsteno en el blanco compuesto y de la temperatura de deposición. Los resultados de espectroscopia de infrarrojo con transformada de Fourier de las películas depositadas a partir de diferentes blancos compuestos muestran la presencia de una banda de absorción a 1730 cm–1 asociada con los grupos carbonilo (C=O) y una banda ancha cerca de 1340 cm–1 en la cual hay dos modos de la fase cúbica y hexagonal del W–C en 1144 y 1220 cm–1, respectivamente
Resumen en inglés Tungsten Carbide (W–C) thin films were obtained by R. F. (13.56 MHz) magnetron co–sputtering process in an argon background gas, from mosaic targets of carbon C (99.9%) and tungsten W (99.9%) with different W and C concentrations. Thin films were deposited at temperatures between 300 and 500 °C onto the silicon (100) and AISI D3 steel substrates. X–ray diffraction analysis shows the different hexagonal WC and orthorhombic W2C subcarbide obtained phases, directly depending on tungsten concentration in the mosaic targets, and on the deposition temperature. Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) results of films deposited from different mosaic targets revealed the presence of a peak at 1730 cm–1 associated to the C=O, carbonyls groups and a broad band centered near 1340 cm–1 in which there are two modes of cubic and hexagonal phases of W–C at 1144 and 1220 cm–1, respectively
Disciplinas: Ingeniería
Palabras clave: Ingeniería de materiales,
Películas delgadas,
Carburo de tungsteno,
Erosión catódica,
Magnetron
Keyword: Engineering,
Materials engineering,
Thin films,
Tungsten carbide,
Sputtering,
Magnetron
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