Influence of surface generation velocity and field-enhanced carrier generation on the measured generation lifetime and relaxation time constant in MOS structures



Título del documento: Influence of surface generation velocity and field-enhanced carrier generation on the measured generation lifetime and relaxation time constant in MOS structures
Revista: Revista mexicana de física
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000204345
ISSN: 0035-001X
Autores: 1

Instituciones: 1Instituto Nacional de Astrofísica, Optica y Electrónica, Tonantzintla, Puebla. México
2Benemérita Universidad Autónoma de Puebla, Centro de Investigación en Dispositivos Semiconductores, Puebla. México
Año:
Periodo: Abr
Volumen: 49
Número: 2
Paginación: 150-154
País: México
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Analítico
Resumen en español Los materiales semiconductores de alta calidad se caracterizan actualmente por tener tiempos de vida de generación en el intervalo de 10–3– 10–2 segundos. Este hecho demanda hacer una reconsideración de la influencia que ciertos factores pueden tener en la correcta obtención del tiempo de vida de generación, con las técnicas de medición que actualmente se emplean. Particularmente, la velocidad de generación de superficie y la generación de portadores acrecentada por campo influyen en el tiempo de vida de generación y la constante de tiempo de relajación en estructuras MOS. En este trabajo se presenta un análisis de esta influencia. Se muestra cómo una interpretación simple de los datos experimentales puede generar un error considerable en la determinación de estos parámetros. La influencia de todos los factores debe ser tomada en cuenta
Resumen en inglés Today's high quality semiconductor materials are characterized with generation lifetimes in the range 10–3– 10–2 sec. This requires re-examination of the influence of some factors on the correct extraction of generation lifetime with the measurement techniques used. Surface generation velocity and field-enhanced carrier generation influence on the measured generation lifetime and relaxation time constant in MOS structures. In the present work, analysis of this influence is presented. It is shown how a simple interpretation of the experimental data can introduce a large error in the determination of these parameters. The influence of all factors must be taken into account
Disciplinas: Física y astronomía
Palabras clave: Física,
Física de materia condensada,
Semiconductores,
Portadores,
Velocidad,
Estructuras MOS,
Tiempo de vida
Keyword: Physics and astronomy,
Condensed matter physics,
Physics,
Semiconductors,
Carriers,
Velocity,
MOS structures,
Lifetime
Texto completo: Texto completo (Ver PDF)