| Revista: | Investigación y ciencia - Universidad Autónoma de Aguascalientes |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000365164 |
| ISSN: | 1665-4412 |
| Autores: | Medina Ramírez, Iliana Ernestina1 Arámbula Miranda, Luis Enrique1 Rizo Díaz, Felipe1 Román Loera, Alejandro1 |
| Instituciones: | 1Universidad Autónoma de Aguascalientes, Centro de Ciencias Básicas, Aguascalientes. México |
| Año: | 2009 |
| Periodo: | Sep-Dic |
| Volumen: | 17 |
| Número: | 45 |
| Paginación: | 44-49 |
| País: | México |
| Idioma: | Español |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Analítico, descriptivo |
| Resumen en español | La técnica de rotación se emplea ampliamente para el depósito de películas delgadas de diversos materiales. Se diseñó y construyó un aparato doméstico para el depósito de películas delgadas basado en el método de rotación. El equipo es compacto y ofrece un control digital, amplio rango de velocidades (desde 1 hasta 7500 rpm), estabilidad, etc. Para la primera fase del depósito, el aparato está programado para acelerar uniformemente de cero a 400 rpm en 30 segundos y permanecer en esta velocidad durante un minuto. En la segunda fase, el usuario puede elegir las condiciones de operación; es decir, velocidad y el tiempo |
| Resumen en inglés | Spin-coating technique is a widely used coating method to produce thin films of numerous materials. A spin-coater apparatus was designed and built. The system offers digital control, wide speed range (from 1 to 7500 rpm), spin speed stability and compact size. The plate is spun in at least two stages which may be programmed. During the first stage, the plate is spun uniformly from zero to 400 rpm, and rotates at 400 rpm for one minute. During the second stage, the operation conditions (speed and time) can be determined by the operator |
| Disciplinas: | Ingeniería, Física y astronomía |
| Palabras clave: | Equipo y maquinaria, Ingeniería química, Física de materia condensada, Semiconductores, Depósitos, Películas delgadas |
| Keyword: | Engineering, Physics and astronomy, Chemical engineering, Equipment and machinery, Condensed matter physics, Semiconductors, Deposition, Thin films |
| Texto completo: | Texto completo (Ver PDF) |
