| Revista: | Dyna (Medellín) |
| Base de datos: | PERIÓDICA |
| Número de sistema: | 000409386 |
| ISSN: | 0012-7353 |
| Autores: | Galeano Osorio, Diana Shirley1 Vargas, Santiago1 Ospina Ospina, Rogelio2 Restrepo Parra, Elisabeth2 Arango, Pedro José2 |
| Instituciones: | 1Universidad Nacional de Colombia, Facultad de Minas, Medellín, Antioquia. Colombia 2Universidad Nacional de Colombia, Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, Medellín, Antioquia. Colombia |
| Año: | 2014 |
| Periodo: | Ago |
| Volumen: | 81 |
| Número: | 186 |
| Paginación: | 94-101 |
| País: | Colombia |
| Idioma: | Inglés |
| Tipo de documento: | Artículo |
| Enfoque: | Aplicado, descriptivo |
| Resumen en español | Se obtuvieron películas delgadas de nitruro de carbono amorfo empleando arco pulsado y variando la temperatura del sustrato a temperatura ambiente, 100, 150 y 200 °C. Los enlaces de las estructuras se investigaron empleando la técnica de espectroscopía infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) y espectroscopía Raman. Se identificaron bandas de nitrilos en aproximadamente 2200 cm-1. Se observó una reducción en la concentración de los enlaces sp3 y del desorden estructural de las películas. La relación entre las intensidades de las bandas D y G aumentó con la temperatura del sustrato desde temperatura ambiente hasta 100°C; sin embargo, a una temperatura crítica de 150°C, esta tendencia desapareció y las películas se tornaron amorfas. Se observó un pico ubicado en aproximadamente 1610 cm-1 en las películas crecidas a 100°C, 150°C y 200 °C; además, las películas crecidas a 150 °C presentaron la rugosidad más baja y mayores durezas y hemocompatibilidad |
| Resumen en inglés | Amorphous carbon nitride films have been obtained by pulsed cathodic arc at substrate temperatures of 20, 100, 150 and 200 °C. Film structure was investigated by Fourier Transformed infrared spectroscopy (FTIR) and Raman spectroscopy. Nitrile bands at approximately 2200 cm-1 were identified in all films. As the temperature increased a reduction in the concentration of sp3 bonds and a decrease in the structure disorder were observed. The relative intensity ratio of Raman D and G bands increased as the substrate temperature increased from 20 to 100°C. Nevertheless, at a critical temperature of 150°C, this trend was broken, and the film became amorphous. A peak at approximately 1610 cm-1 of films grown at 100°C, 150°C and 200 °C suggests that CNx is dominated by a relatively ordered graphite ring like glassy carbon. Moreover, the film grown at 150 °C presented the lowest roughness and the highest hardness and hemocompatibility |
| Disciplinas: | Ingeniería |
| Palabras clave: | Ingeniería metalúrgica, Películas delgadas, Nitruro de carbono, Espectroscopía Raman, Arco de vacío |
| Keyword: | Engineering, Metallurgical engineering, Thin films, Carbon nitride, Raman spectroscopy, Vacuum arc |
| Texto completo: | Texto completo (Ver HTML) |
