| Revista: | Dyna (Medellín) |
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| Número de sistema: | 000544233 |
| ISSN: | 0012-7353 |
| Autores: | GARCIA, DANNA1 PIRATOBA, ULISES2 MARIÑO, ALVARO3 |
| Instituciones: | 1Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia, 2Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia, Escuela de Física, 3Universidad Nacional de Colombia, |
| Año: | 2007 |
| Periodo: | May-Ago |
| Volumen: | 74 |
| Número: | 152 |
| Paginación: | 181-185 |
| País: | Colombia |
| Idioma: | Español |
| Resumen en español | Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetron Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blanco formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se varió entre 260 y 330 ºC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determinó mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de pequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión. |
| Resumen en inglés | TiAlN films were deposited by rf magnetron sputtering onto AISI 4140 steel substrates. A mixed target of metallic Ti and Al with a nominal composition of 60 atom% Ti and 40 atom% Al was used. The substrate temperature was varied between 260 ºC and 330 ºC, at a PN2/PAr pressure ratio of about 0.1. Coatings of different thickness were obtained, varying the time deposition between 2 and 4,5 hours. The chemical composition of the films was determined by EDX, and the surface topography by AFM. The electrochemical behavior, determined by EIS and TAFEL, and the micro - hardness were analyzed; the coatings displayed mainly a granular structure with small and regular grains. |
| Palabras clave: | Recubrimientos duros, (Ti,Al)N, Rf Sputtering, Pulverización catódica |
| Keyword: | Hard coatings, (Ti,Al)N, Sputtering rf. |
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