Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD



Título del documento: Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD
Revista: Científica (México, D.F.)
Base de datos:
Número de sistema: 000594495
ISSN: 1665-0654
Autores: 1
1
1
Instituciones: 1Tecnológico de Monterrey,
Año:
Volumen: 25
Número: 2
Paginación: 1-14
País: México
Idioma: Español
Resumen en inglés This work will address the design of a small-scale machine for sputtering tanks (PVD) for student use. This from the generation and focusing of plasma in a controlled way in a vacuum system with the support of a high voltage system. Through this design it was possible to make a visible aluminum deposit on glass substrates during a simple round of tests. This type of system can open the doors to future projects in materials technology, as well as research in areas such as optics or tribology at the university level.
Resumen en español En este trabajo se abordará el diseñó de una máquina a escala de depósitos por pulverización catódica (PVD) para uso estudiantil. Esto a partir de la generación y focalización de plasma de manera controlada en un sistema de vacío con el apoyo de un sistema de alto voltaje. Por medio de este diseño se consiguió realizar un depósito de aluminio visible sobre sustratos de vidrio durante una ronda sencilla de pruebas. Este tipo de sistema puede abrir las puertas a proyectos futuros en tecnología de materiales, así como la investigación en áreas como la óptica o la tribología a nivel universitario.
Palabras clave: depósito de material,
PVD,
plasma,
tecnología de materiales
Keyword: material deposition,
PVD,
plasma,
materials technology
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