Superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Parte II: substratos, processos de deposição e tratamento térmico



Título del documento: Superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Parte II: substratos, processos de deposição e tratamento térmico
Revista: Ceramica (Sao Paulo)
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000372271
ISSN: 0366-6913
Autores: 1
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1
4
Instituciones: 1Universidade Federal de Santa Catarina, Programa de Pos-Graduacao em Ciencia e Engenharia de Materiais, Florianopolis, Santa Catarina. Brasil
2Instituto Maximiliano Gaidzinski, Cocal do Sul, Santa Catarina. Brasil
3Universidade do Extremo Sul Catarinense, Criciuma, Santa Catarina. Brasil
4Universidade de Aveiro, Departamento de Engenharia Ceramica e do Vidro, Aveiro. Portugal
Año:
Periodo: Ene-Mar
Volumen: 60
Número: 353
Paginación: 1-9
País: Brasil
Idioma: Portugués
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Aplicado, descriptivo
Resumen en inglés This work corresponds to the second part of the review of photocatalytic titania surface on ceramic substrates. In this review, the main factors that influence the production of anatase as the influence of substrate, deposition and heat treatment processes. In substrates with rough surfaces, higher photocatalytic efficiency is reported due to the higher contact area. Deposition processes commonly used in ceramic surfaces are: magnetron sputtering, dip coating, spin coating, screen printing, silk screen, powder spraying, rotocolor and digital printing. After heat treating the titanium dioxide, it can be seen that at all temperatures and pressures rutile is more stable as anatase. The later is metastable achieving stability only at low temperatures. The transformation from anatase to rutile occurs gradually in a broad temperature range
Resumen en portugués Este trabalho corresponde à segunda parte da revisão das superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Nesta parte, são descritos os principais fatores que influenciam na obtenção da fase anatase como: substrato, processos de deposição e tratamento térmico. Nos substratos que apresentam superfícies ásperas há uma maior eficiência fotocatalítica devido a sua maior área de contato. Os processos de deposição mais comumente utilizados em superfícies cerâmicas são: magnetron sputtering, dip coating, spin coating, serigrafia plana, pulverização, incavografia e impressão digital. Com relação ao tratamento térmico do dióxido de titânio, em todas as temperaturas e pressões a fase rutilo é a mais estável. A fase anatase é metaestável atingindo a estabilidade apenas em temperaturas baixas. A transformação de fase anatase para rutilo é gradual não apresentando uma temperatura definida
Disciplinas: Ingeniería
Palabras clave: Ingeniería de materiales,
Ingeniería química,
Superficies cerámicas,
Dióxido de titanio,
Estabilidad de fase
Keyword: Engineering,
Chemical engineering,
Materials engineering,
Ceramic surfaces,
Titanium dioxide,
Phase stability
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