Kinetic analysis of the chemical processes in the decomposition of gaseous dielectrics by a non-equilibrium plasma - part 1: CF4 and CF4/O2



Título del documento: Kinetic analysis of the chemical processes in the decomposition of gaseous dielectrics by a non-equilibrium plasma - part 1: CF4 and CF4/O2
Revista: Journal of the Brazilian Chemical Society
Base de datos: PERIÓDICA
Número de sistema: 000310966
ISSN: 0103-5053
Autors: 1
Institucions: 1Universidade Federal do Rio de Janeiro, Instituto de Quimica, Rio de Janeiro. Brasil
Any:
Període: Abr
Volum: 11
Número: 2
Paginació: 121-128
País: Brasil
Idioma: Inglés
Tipo de documento: Artículo
Enfoque: Experimental, aplicado
Resumen en inglés Numerical integration of the coupled differential equations which describe a chemical reacting system and sensitivity analysis are becoming increasingly important tools in chemical kinetics. In this work, a numerical modelling analysis of the chemical processes in the gas-phase decomposition of pure CF4 and CF4/O2 mixtures, in the presence of silicon, was performed. The relative importance of individual processes was analysed and the sensitivity coefficients as well as the effect of the parameters uncertainties were determined . The results were compared with experimental data from the literature to adjust the model parameters. The main etching agent in the system is the fluorine atom. The concentrations of the main species (SiF4, CO, CO2 and COF2) depend on the composition of the mixture
Resumen en portugués A integração numérica das equações diferenciais ordinárias que descrevem um sistema cinético e a análise de sensibilidade dos resultados aos parâmetros são metodologias cada vez mais utilizadas na cinética química. Neste trabalho, é apresentado um estudo de simulação numérica da decomposição em fases gasosa de CF4 e de misturas CF4/O2 na presença de silício. É analisada a importância relativa dos processos individuais e são calculados os coeficientes de sensibilidade e o efeito da incerteza nos parâmetros. Os resultados são comparados com dados experimentais da literatura para ajustar os parâmetros do modelo. O principal agente de corrosão neste sistema é o flúor atômico. As concentrações das principais espécies (SiF4, CO, CO2 e COF2) dependem da composição da mistura
Disciplines Química
Paraules clau: Química orgánica,
Descomposición de gases,
Tetrafluorometano,
Análisis de sensibilidad,
Análisis de tasa de producción
Keyword: Chemistry,
Organic chemistry,
Gas decomposition,
Tetrafluoromethane,
Sensitivity analysis,
Rate of production analysis
Text complet: Texto completo (Ver HTML)