Characterization of thin films deposited by physical vapor deposition (PVD), using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) technique



Document title: Characterization of thin films deposited by physical vapor deposition (PVD), using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) technique
Journal: Journal of the Mexican Chemical Society
Database: PERIÓDICA
System number: 000397044
ISSN: 1665-9686
Authors: 1
1
1
1
1
2
Institutions: 1Centro de Investigación y Desarrollo Tecnológico en Electroquímica S.C., Pedro Escobedo, Querétaro. México
2Instituto Politécnico Nacional, Centro de Investigación de Estudios Avanzados, Juriquilla, Querétaro. México
Year:
Season: Oct-Dic
Volumen: 59
Number: 4
Pages: 308-313
Country: México
Language: Inglés
Document type: Artículo
Approach: Experimental, aplicado
Spanish abstract En el presente trabajo se evaluó el desempeño ante la corrosión de una película delgada de NiCu depositada por la técnica de Deposición de vapor física a dos diferentes tiempos de deposición. Los resultados de Espectroscopía de Impedancia Electroquímica en disolución de NaCl mostraron un aumento gradual de la resistividad como consecuencia de la degradación de la película (delaminación) para los dos tiempos, junto con la deposición de productos de corrosión generados sobre el recubrimiento por la recombinación de los óxidos del sustrato
English abstract In this paper the performance against corrosion of a thin film of NiCu deposited by Physical Vapor Deposition at two different times of deposition, was evaluated. Electrochemical Impedance results in NaCl solution, showed a gradual increase in resistivity due to the degradation of the film (delamination) for both times, along with the deposition of corrosion products on the coating generated by recombination of substrate oxides
Disciplines: Ingeniería,
Química
Keyword: Ingeniería química,
Química organometálica,
Corrosión,
Espectroscopía de impedancia electroquímica,
Nanotecnología,
Películas delgadas
Keyword: Engineering,
Chemistry,
Chemical engineering,
Organometallic chemistry,
Corrosion,
Electrochemical impedance spectroscopy (EIS),
Nanotechnology,
Thin films
Full text: Texto completo (Ver HTML)