Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C



Document title: Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C
Journal: Facultad de Ingeniería - Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
Database: PERIÓDICA
System number: 000374561
ISSN: 0121-1129
Authors: 1
1
1
Institutions: 1Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia, Tunja, Boyacá. Colombia
Year:
Season: Ene-Jun
Volumen: 22
Number: 34
Pages: 55-61
Country: Colombia
Language: Español
Document type: Artículo
Approach: Aplicado, descriptivo
Spanish abstract Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por muestras de acero 1020 y de cobre colocadas en el cátodo de una descarga luminiscente con flujo de argón a una temperatura de 800 °C en el cátodo. El proceso de sputtering fue llevado a cabo en corriente continua y también con corriente continua pulsante, encontrándose una menor tasa de sputtering con este último tipo de señal, reflejada en la menor pérdida de masa de las muestras utilizadas. También se determinó que cuando se utiliza corriente continua pulsante se requiere una menor potencia en la descarga luminiscente para mantener una misma temperatura en el cátodo de la descarga. Mediante análisis de microscopia óptica de la superficie de las muestras, también se observa menor homogeneidad superficial en las muestras sometidas a la descarga luminiscente anormal en corriente continua pulsante
Disciplines: Ingeniería
Keyword: Ingeniería metalúrgica,
Cátodos,
Sinterización,
Descarga luminiscente,
Pulverización,
Corriente continua
Keyword: Engineering,
Metallurgical engineering,
Cathodes,
Sinterization,
Sputtering,
Glow discharge,
Continuous current
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